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金屬的純度是相對于雜質而言的
- 分類:行業新聞
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- 發布時間:2020-09-18 10:35
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金屬的純度是相對于雜質而言的
金屬的純度是相對于雜質而言的,廣義上雜質包括化學雜質(元素)和物理雜質(晶體缺陷)。物理雜質主要是指位錯及空位等,而化學雜質是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只有當金屬純度達到很高的標準時(如純度9N以上的金屬),物理雜質的概念才是有意義的,所以生產上一般以化學雜質的含量作為評價金屬純度的標準,即以主金屬減去雜質總含量的百分數表示,常用N(nine的第一個字母)代表,如99.9999%寫為6N,99.99999%寫為7N。
目前高純金屬純度的表示方式主要有兩種:一種是以材料的用途來表示,如“光譜純”、“電子級純”等;另一種是以某種特征來表示,例如半導體材料用載流子濃度,即1立方厘米的基體元素中起導電作用的雜質個數來表示,而金屬主要用剩余電阻率RRR和純度級R表示純度。
隨著材料加工技術水平的提高,金屬的純度在不斷提高,但要制備絕對純的金屬是不可能的。所謂的“高純”和“超純”具有相對的含義,是指技術上達到的標準。由于科學技術的發展,也使得“高純”和“超純”的標準在不斷升級。例如過去高純金屬的雜質為ppm級(即百萬分之幾),超純半導體材料的雜質為ppb級(十億分之幾),而現在己經逐步發展到以ppb級(十億分之幾)和ppt級(一萬億分之幾)來表示。同時各個金屬的提純難度不盡相同,如半導體材料中稱9N以上為高純,而難熔金屬達6N己屬超高純。
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